ＳＫハイニックス勤務の中国籍職員、ファーウェイに「半導体資料３千枚」渡したのか
SKハイニックス元職員が半導体工程資料をファーウェイに流出させた容疑で裁判に付された。
SKハイニックスは、A氏が社内資料を出力していたことを確認し警察に通報。
資料は半導体の前工程に関するもので、A氏はその業務に携わっていた。
元SKハイニックス職員が会社の半導体工程資料をファーウェイに流出させた容疑で裁判に付された。該当職員はファーウェイに転職する直前にハイニックスの資料数千枚を出力していたことが確認された。
28日、警察の説明によれば、京畿南部警察庁産業技術安保捜査隊はSKハイニックスに在職したA氏を産業技術保護法違反などの疑いで先月末に検察に拘束送致した。中国国籍のA氏は先月入国した時に逮捕され、最近起訴され水原地裁驪州支所で裁判を受けている。
A氏はSKハイニックスの半導体工程関連資料を中国ファーウェイに渡した疑惑を受けている。2013年にハイニックスに入社したA氏は、2022年にさらに高い年俸を提案されファーウェイに転職したが、ハイニックス退社直前に半導体工程問題解決策に対する資料を約3千枚出力していたことが把握された。SKハイニックスは出力物の内容と使途などを記録して保管するが、A氏の場合、使途に関する記録がないことを確認し警察に申告した。警察はA氏が出力物をファーウェイ側に持ち出したと見ているが、A氏は疑惑を否定している。
今回問題になった資料は、半導体の前工程に当たるという。前工程とは、前の工程で、半導体ウェハーを作り、回路を刻む段階を指す。パッケージングなどが行われる後工程と区別される。A氏は2013年から2020年まで半導体設計上の不良を分析する部署で勤務し、2020年からはハイニックスの中国法人に移り、企業間取引（B2B）顧客相談を担当するチーム長級職員として働いた。半導体業界の関係者は「（A氏が）担当した業務も前工程で、出力した資料も前工程に関連する部分だと聞いている」とし「（後工程が重要な）高帯域幅メモリー（HBM）は今回の事件と関連がないと見ている」と話した。
イ・ジェヨン記者 (お問い合わせ japan@hani.co.kr )
