# 露光技術
![先端半導体、回路微細化の決め手「EUV」 東京応化や信越化学などが材料投資を加速](/img/article/20240702/66838a2f98c4f.jpg)
2024.07.02
先端半導体、回路微細化の決め手「EUV」 東京応化や信越化学などが材料投資を加速
半導体材料メーカーが、回路の微細化に欠かせない次世代露光技術「EUV」(極端紫外線)向けの設備投資を加速している。生成AI(人工知能)の拡大などを背景に、半導体の高性能化が求められており、回路の微細化が一段と進展。回路パターンをシリコンウエハーに転写する露光技術で、13.5ナノメートルと極端