# フォトレジスト

　半導体材料メーカーが、回路の微細化に欠かせない次世代露光技術「EUV」（極端紫外線）向けの設備投資を加速している。生成AI（人工知能）の拡大などを背景に、半導体の高性能化が求められており、回路の微細化が一段と進展。回路パターンをシリコンウエハーに転写する露光技術で、13.5ナノメートルと極端

　産業革新投資機構（JIC）傘下の事業再編ファンド、JICキャピタルと半導体材料大手JSRは27日、東京都内で共同記者会見を開いた。　JICキャピタルの池内省五社長は、JSRが強みを持つ半導体製造の「前工程」材料を中心に規模拡大を進める考えを示した。　池内氏はJSR

三菱ケミカルグループは12日、九州事業所・福岡地区（北九州市八幡西区）に半導体フォトレジスト材料の製造設備を新設すると発表した。先端半導体の需要増や、事業継続計画（BCP）に対応する。フッ化アルゴン（ArF）フォトレジスト用感光性ポリマーの設備を2025年10月、極端紫外線（EU

　信越化学工業が、半導体チップと基板を電気的に接続する「インターポーザー」の機能をパッケージ基板に直接盛り込める高性能なエキシマレーザー装置と新工法を開発した。半導体の前工程で用いられるデュアルダマシン工法を後工程用パッケージ基板に応用し、フォトレジスト工程を不要にするなどコスト低減と設備投資

　化学大手の三菱ケミカルグループは12日、北九州市の拠点内に半導体材料の生産設備を新設すると発表した。投資額は数十億円。半導体製造に使われる「フォトレジスト」（感光剤）の原料を生産する。2025年9～10月の稼働を目指す。　これまでは横浜市の拠点のみで生産していた。グループ全体の

　三菱ケミカルグループ <4188> は12日、半導体材料のフォトレジスト（感光剤）用感光性ポリマーの生産能力増強へ、北九州市の事業所に量産設備の新設を決めたと発表した。フォトレジストはJSRなど日本企業が圧倒的なシェアを持っており、今後もさらなる市場成長が見込めると判断した。数十億円を投資し

　【日本株】「半導体」の製造フローで欠かせない装置を手掛ける注目企業は「レーザーテック」と「信越化学工業」の2銘柄！　●世界シェア100％の検査装置を手掛ける「レーザーテック」や、シリコンウエハーで世界首位の「信越化学工業」に注目！　　今後、株式市場の